Intel 4工藝官宣大規(guī)模量產(chǎn) 第一次采用EUV極紫外光刻
2023-10-12 14:49:13??????點(diǎn)擊：
Intel官方宣布，已經(jīng)開始采用EUV極紫外光刻技術(shù)，大規(guī)模量產(chǎn)Intel 4制造工藝。這是Intel首個采用EUV生產(chǎn)的制程節(jié)點(diǎn)，對比前代在性能、能效、晶體管密度方面均實(shí)現(xiàn)了顯著提升。Intel 4工藝首發(fā)用于代號Meteor Lake的酷睿Ultra處理器，將在12月14日正式發(fā)布，面向主流和輕薄筆記本。
目前，Intel正在穩(wěn)步推進(jìn)“四年五個制程節(jié)點(diǎn)”計劃。
其中，Intel 7和Intel 4已實(shí)現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)，前者用于12/13/14代酷睿。
Intel 3正在按計劃推進(jìn)，目標(biāo)是2023年底。
明年上半年，Intel將推出首個采用Inte 3工藝的Sierra Forest至強(qiáng)處理器，基于E核架構(gòu)，最多288核心，隨后是同樣Intel 3工藝、P核設(shè)計的Granite Rapids。
Intel 20A和Intel 18A同樣進(jìn)展順利，目標(biāo)是2024年，將首次采用RibbonFET全環(huán)繞柵極晶體、PowerVia背面供電技術(shù)。
此外，Intel即將推出面向代工服務(wù)客戶的Intel 18A制程設(shè)計套件（PDK）。
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